--- title: "EUVリソグラフィ市場、2035年に250億8000万米ドルへ成長予測 – 先端半導体製造を支える技術革新" url: "https://prisa.jp/2026/08/19/euv%e3%83%aa%e3%82%bd%e3%82%b0%e3%83%a9%e3%83%95%e3%82%a3%e5%b8%82%e5%a0%b4%e3%80%812035%e5%b9%b4%e3%81%ab250%e5%84%848000%e4%b8%87%e7%b1%b3%e3%83%89%e3%83%ab%e3%81%b8%e6%88%90%e9%95%b7%e4%ba%88/" date_published: "2026-08-19T16:07:16+09:00" date_modified: "2026-08-19T16:07:16+09:00" site: "プライザ" site_url: "https://prisa.jp/" author: "webmaster" language: "ja-JP" genre: "ビジネス・経済" category: "" tags: [] reading_time_minutes: 5 attribution: "引用・要約は歓迎します。出典として「プライザ」と記事URLを明記してください。" --- # EUVリソグラフィ市場、2035年に250億8000万米ドルへ成長予測 – 先端半導体製造を支える技術革新 > EUVリソグラフィ市場は、AIプロセッサや高性能コンピューティングの需要増を背景に、2025年の121億6000万米ドルから2035年には250億8000万米ドルに達すると予測されており、年平均成長率8.28％で拡大が見込まれます。この成長は、先端半導体製造におけるEUV技術の戦略的重要性の高まりを示しています。 ## 市場成長の背景と要因 市場拡大の背景には、生成AIをはじめとする高度な計算処理の普及と、それを支える先端ロジック半導体への需要増加があります。従来のArF液浸露光だけでは微細化に伴う工程の複雑化や多重パターニングへの対応負担が大きくなり、先端ノードではEUVの戦略的重要性が一段と高まっています。特に2nm世代以降では、露光性能だけでなく、マスク、レジスト、光源、計測・検査、欠陥管理などを含む製造エコシステム全体の完成度が歩留まりと生産性を左右します。この技術により、7ナノメートル未満の微細構造を持つチップの製造が可能となり、ムーアの法則の限界を押し広げています。 データセンター、家電製品、人工知能（AI）、ハイパフォーマンスコンピューティング（HPC）、5Gインフラ、自動車用電子機器などにおける高度な半導体デバイスへの需要の高まりを背景に、EUVリソグラフィ市場は大幅な成長が見込まれています。より微細なプロセスノード（5 nm、3 nm以下）への急速な移行に伴い、チップメーカーがトランジスタ密度の向上、エネルギー効率の改善、処理性能の向上を追求する中で、EUVリソグラフィの採用が加速しています。 ## EUV関連ビジネスの広がり EUV市場で企業が注目すべきポイントは、半導体メーカーによる大型設備投資だけではありません。実際の量産では、フォトレジスト、フォトマスク、ペリクル、反射光学系、真空関連部品、計測・検査装置、プロセス制御、装置保守など、多数の技術が連動します。したがって、材料メーカーや精密機器企業、部品メーカーにとっても、先端ノードへの移行は新たな事業機会になり得ます。顧客から要求される品質水準は極めて高く、微細欠陥、汚染、耐久性、安定供給への対応能力が採用判断を左右します。価格競争に留まらず、顧客工程に深く入り込み、歩留まり改善や生産効率向上まで支援できる企業ほど長期的な競争優位を築きやすい市場構造です。 ## 技術革新と次の焦点 EUVの次の技術競争では、さらなる微細化を可能にするHigh-NA EUVと、製造データを活用した工程最適化が重要になります。半導体製造では膨大な工程データが発生するため、AIや高度解析を利用して露光条件、欠陥検出、装置状態、歩留まり変動を分析する価値が高まっています。AIはEUVそのものを代替するのではなく、高額な製造設備をより効率的に運用するための補完技術となるでしょう。露光技術、計測、検査、プロセス制御、データ解析が一体化すれば、競争軸は単純な解像性能から、生産速度、稼働率、歩留まり、総保有コストへ広がると考えられます。 ## 日本市場の動向と機会 特に日本市場では、半導体サプライチェーン強化、先端半導体製造能力の国内回帰、次世代材料・装置技術への投資拡大が進む中で、EUVリソグラフィ技術は企業の競争力を左右する重要な戦略領域として注目されています。2025年には、Rapidusが北海道千歳市のIIM-1で量産対応EUV露光装置「NXE:3800E」の設置を完了し、パイロットラインを稼働させました。同年7月には2nm世代GAAトランジスタの電気特性確認を公表しています。Rapidusは2nm世代ロジック半導体の量産開始を2027年に計画しており、計画が進展すれば、日本国内でEUVを中心とした装置、材料、検査、保守、設計サービスへの需要がさらに具体化する可能性があります。 EUVリソグラフィ市場の拡大は、半導体製造企業だけの投資テーマではありません。2035年に向けて先端半導体の生産能力が拡充されれば、材料、精密加工、光学技術、計測、検査、真空機器、熱管理、ファクトリーオートメーション、データ解析など、日本企業が技術優位を持つ周辺領域にも商機が広がります。 ## 主要な市場参入企業 EUVリソグラフィ市場の主要企業は以下の通りです。 - ASML Holding NV - NTT Advanced Technology Corporation - Canon Inc - Nikon Corporation - Intel Corporation - Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited - Samsung Electronics Co. Ltd - Toppan Photomasks Inc - ZEISS Group - Ushio, Inc. - その他の主要なプレイヤー ## 市場の課題とリスク EUV市場は高い成長余地を持つ一方、参入障壁も極めて高い分野です。露光装置の供給集中、巨額の設備投資、複雑な国際サプライチェーン、熟練技術者不足、材料品質、輸出管理などが事業リスクになります。また、先端ノードではわずかな工程変動が歩留まりや製造コストに影響するため、技術性能だけでなく安定供給と品質保証が競争力を決めます。さらに製造設備のデジタル化が進めば、工場ネットワークや製造データを対象とするサイバーセキュリティも無視できません。成功企業に求められるのは、単独製品の性能競争ではなく、顧客との共同開発、供給網の複線化、人材確保、知的財産管理、長期保守までを含めて事業モデルを設計する能力です。 ## まとめ 2035年に向けて、EUVリソグラフィ市場はAI時代の半導体供給網を支える長期的な産業基盤へ移行していることを示しています。市場参入企業や投資判断を行う経営層にとって、EUV技術の導入状況、製造能力拡張、関連部材・装置エコシステムの成長性を把握することが、今後の半導体産業における事業機会を見極める重要なポイントとなるでしょう。 ### 関連リンク - この戦略的レポートの無料サンプルダウンロードのリクエスト: [https://www.reportocean.co.jp/request-sample/euv-lithography-market](https://www.reportocean.co.jp/request-sample/euv-lithography-market) - 産業分析を含むこの戦略レポートの無料サンプルをダウンロードする: [https://www.reportocean.co.jp/industry-reports/euv-lithography-market](https://www.reportocean.co.jp/industry-reports/euv-lithography-market) - 市場調査レポートの詳細な洞察: [https://www.reportocean.co.jp/request-sample/euv-lithography-market](https://www.reportocean.co.jp/request-sample/euv-lithography-market) - 購入前にこのレポートの詳細を問い合わせる: [https://www.reportocean.co.jp/industry-reports/euv-lithography-market](https://www.reportocean.co.jp/industry-reports/euv-lithography-market) ## 関連記事 - [シニア世代の3人に1人が株式投資を実践、投資経験の有無で金融資産に約7倍の差](https://prisa.jp/2026/09/17/%e3%82%b7%e3%83%8b%e3%82%a2%e4%b8%96%e4%bb%a3%e3%81%ae3%e4%ba%ba%e3%81%ab1%e4%ba%ba%e3%81%8c%e6%a0%aa%e5%bc%8f%e6%8a%95%e8%b3%87%e3%82%92%e5%ae%9f%e8%b7%b5%e3%80%81%e6%8a%95%e8%b3%87%e7%b5%8c%e9%a8%93/) - [時価総額5,000億円超の企業11社が参加、SSBJ基準対応の「社内実装」が重要課題に](https://prisa.jp/2026/09/17/%e6%99%82%e4%be%a1%e7%b7%8f%e9%a1%8d5000%e5%84%84%e5%86%86%e8%b6%85%e3%81%ae%e4%bc%81%e6%a5%ad11%e7%a4%be%e3%81%8c%e5%8f%82%e5%8a%a0%e3%80%81ssbj%e5%9f%ba%e6%ba%96%e5%af%be%e5%bf%9c%e3%81%ae%e3%80%8c/) - [会計事務所の生成AI利用率が75%に急伸―「会計事務所白書2026」が公開](https://prisa.jp/2026/09/17/%e4%bc%9a%e8%a8%88%e4%ba%8b%e5%8b%99%e6%89%80%e3%81%ae%e7%94%9f%e6%88%90ai%e5%88%a9%e7%94%a8%e7%8e%87%e3%81%8c75%e3%81%ab%e6%80%a5%e4%bc%b8%e2%80%95%e3%80%8c%e4%bc%9a%e8%a8%88%e4%ba%8b%e5%8b%99/) - [日本企業のサーキュラーエコノミー実態調査2026：AI活用がビジネスモデル転換を加速](https://prisa.jp/2026/09/17/%e6%97%a5%e6%9c%ac%e4%bc%81%e6%a5%ad%e3%81%ae%e3%82%b5%e3%83%bc%e3%82%ad%e3%83%a5%e3%83%a9%e3%83%bc%e3%82%a8%e3%82%b3%e3%83%8e%e3%83%9f%e3%83%bc%e5%ae%9f%e6%85%8b%e8%aa%bf%e6%9f%bb2026%ef%bc%9aai/) - [SBI証券、米国株式IPO「SBエナジー」の購入申込受付を予定 – NISA成長投資枠での購入も可能](https://prisa.jp/2026/09/17/sbi%e8%a8%bc%e5%88%b8%e3%80%81%e7%b1%b3%e5%9b%bd%e6%a0%aa%e5%bc%8fipo%e3%80%8csb%e3%82%a8%e3%83%8a%e3%82%b8%e3%83%bc%e3%80%8d%e3%81%ae%e8%b3%bc%e5%85%a5%e7%94%b3%e8%be%bc%e5%8f%97%e4%bb%98%e3%82%92/) ## この記事について - 媒体: プライザ（https://prisa.jp/） - HTML版: https://prisa.jp/2026/08/19/euv%e3%83%aa%e3%82%bd%e3%82%b0%e3%83%a9%e3%83%95%e3%82%a3%e5%b8%82%e5%a0%b4%e3%80%812035%e5%b9%b4%e3%81%ab250%e5%84%848000%e4%b8%87%e7%b1%b3%e3%83%89%e3%83%ab%e3%81%b8%e6%88%90%e9%95%b7%e4%ba%88/ - サイト概要（LLM向け）: https://prisa.jp/llms.txt